不可不知的反渗透膜在水处理设备中应用的20大知识点（二）
11.RO系统通常需要哪些预处理？
常用的预处理系统包括：粗滤(~80微米)去除大颗粒，加入次氯酸钠等氧化剂，然后用多介质过滤器或澄清池精密过滤，再加入亚硫酸氢钠还原余氯等氧化剂，最后在高压泵入口前安装了防毒液。正如其名所说，安全过滤器是防止高压泵中偶发的大颗粒对叶轮和膜元件的破坏作用的最终保险措施。含有大量颗粒悬浮物的水源，通常需要进行较高程度的预处理，以满足规定的进水要求；对于硬度较高的水源，建议采用软化或加酸、加阻垢剂等；对于有高微生物和有机物的水源，则需使用活性炭或抗污染膜元件。
12.反渗透能否去除诸如病毒和细菌等微生物？
RO(RO)密度很大，能很好地去除病毒、噬菌体和细菌，在3log以上(去除率>%)。但也要注意的是，在许多情况下，微生物在膜产水侧仍然可能再次发生，主要取决于如何组装、监测和维护，也就是说，一种系统中微生物的去除能力主要依赖于系统设计、运行和管理的适当性，而非膜元件本身的特性。
13.温度如何影响产量呢？
气温升高，则产水增加，反之亦然。当气温升高时，应降低操作压力，使产水保持恒定，反之则相反。有关温度修正系数TCF，请参阅有关章节。
14.什么是颗粒和胶体污染？
如何测定?
反渗或纳滤系统中的颗粒和胶体一旦被堵塞，将严重影响膜的产水量，有时还会降低脱盐效率。胶质污染的早期表现为系统压差增大，膜入水水源中的颗粒或胶体来源因地而异，通常包括细菌、泥沙、胶体硅等。在澄清池或介质过滤器中，若不能有效地清除，则预处理部分使用的药物如聚合铝、三氯化铁或阳离子聚电介质，还可以造成堵塞。另外，阳离子性聚电介质也会与阴离子性防垢剂发生反应，其沉淀物会结垢堵塞膜元件，用SDI15评估水中这种污垢倾向或预处理是否合格用SDI15评估。
15.未进行系统清洗，多长时间允许停机？
若采用阻后剂，温度范围为20~38℃，温度为4小时左右，20℃以下为8小时左右；若系统不使用阻垢剂，约1天。
16.如何能够减少膜系统的能源消耗？
使用低能膜元件即可，但应注意到其脱盐率低于标准膜元件。微滤膜可以自由地穿过微滤膜，用来去除细菌、微絮体或总悬浮物，通常在膜两侧各面压力1~3bar。
17.反渗透纯水系统是否经常启动？
膜系以连续运转为设计基准，但在实际运行中，总会出现一定频率的开、停。膜系停止运转时，必须将其产水或经预处理合格的水低压冲洗，并将含有阻垢剂的高浓度浓水从膜元件中排出。也应该采取措施防止系统中的水漏入空气，因为空气中的水分蒸发掉，可能会造成不可逆的产水通量损失。如停机时间少于24小时，则不需要采取措施防止微生物繁殖。超过上述规定的停机时间，采用保护液作系统保存或定时冲洗膜系统。
18.膜片元件上安装盐水密封圈的方向如何确定？
请膜件上的盐水密封环安装在元件进水端，而开口朝向进水方向，当给压力容器进水时，其开口(唇边)会进一步打开，完全封住进水从膜元件与压力容器内壁间的旁流。
19.如何从水中除去硅？
两种形态下的硅：活性硅(单体硅)和胶体硅(多元硅)：胶体硅不具有离子的特性，但尺度较大，胶体硅可以被精细的物理过滤过程截留，例如反渗透，也可以使用浓缩技术来降低水中的含量，比如混凝澄清池，但那些依赖于离子电荷特性的分离技术，如离子交换树脂和连续电去离子工艺(CDI)，对于去胶体硅的作用是非常有限的。与胶体硅片相比，活性硅粒径小得多，因此，大部分的混凝、过滤、气浮等物理过滤不能去除活性硅，能有效去除活性硅的过程是反渗透、离子交换和连续电去离子过程。
产品在pH值范围上，一般在2~11之间，pH对膜性能本身的影响不大，这是区别于其他膜产品的一个显著特点，但水里很多离子的性质都受到pH的影响，比如柠檬酸一类弱酸，在pH较低时，都以非离子态为主，而在高pH时则呈现离子态。离子相同，电荷度高，膜脱除率高，电荷度低或不加电，膜的脱除率较低，所以pH对一些杂质的去除效果很大。
